| 产品特性：国内总代 | 加工定制：是 | 品牌：EVG |
| 型号：EVG | 用途：光刻技术方面的关键能力在于其掩模对准器的高通量接触和接近曝光功能以及其抗蚀剂处理系统 | 订货号：111111 |
| 货号：111111 | 别名：光刻机 | 规格：IQ Aligner NT |
| 是否跨境货源：否 |
抗蚀剂处理系统
EVG100系列光刻胶处理系统在光刻胶涂层和显影的质量和灵活性方面建立了新的标准。 EVG100系列的设计旨在提供***的工艺变化，其模块化功能可提供旋涂和喷涂，显影，烘烤和冷却模块，以满足个性化生产需求。这些系统可处理各种材料，例如正性和负性抗蚀剂，聚酰亚胺，薄抗蚀剂层的双面涂层，高粘度抗蚀剂和边缘保护涂层。这些系统可以处理多种尺寸的基板，直径从2“到300 mm，矩形，正方形甚至不规则形状的基板，而无需或只需很短的加工时间。这使得可以在工业水平上开发新的设备或工艺。 EVG不仅需要高度的灵活性，而且需要可控的和可重复的处理过程，并且在要求苛刻的应用中积累了多年的旋涂和喷涂经验，并将这些知识纳入EVG100系列中，从而可以利用我们的工艺知识来为客户提供支持。
EVG?101
***的抗蚀剂处理系统；研发和小规模生产中的单晶圆抗蚀剂加工
EVG?105
烘烤模块；独立的EVG105烘焙模块专为软曝光或曝光后烘焙过程而设计
EVG?120
自动抗蚀剂处理系统；EVG120是一款紧凑，经济高效的系统，用于在洁净室空间有限的情况下启动生产
EVG?150 自动抗蚀剂处理系统
EVG150是一种全自动抗蚀剂处理系统，可保持涂覆/显影过程和高通量性能，支持直径为300 mm的晶片
集成光刻光刻系统
光刻跟踪系统通过完全集成的生产系统和结合了掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理功能的高度自动化，完善了EVG光刻产品系列。 HERCULES光刻跟踪系统基于模块化平台，将EVG业已建立的光学掩模对准技术与集成的清洁，抗蚀剂涂层，烘烤和抗蚀剂显影模块相结合。 这使HERCULES平台变成了“一站式服务”，在这里将经过预处理的晶圆装载到工具中，然后返回完全结构化的经过处理的晶圆。
选择平版印刷跟踪系统
HERCULES?光刻跟踪系统：EVG HERCULES是一个高容量系统平台，将整个光刻工艺流程整合到一个设备中，从而减少了工艺占地面积和操作员支持
