| 加工定制：是 | 品牌：trymax | 型号：Trymax半导体设备***的-***灰化和蚀刻：NEO200A系列平台 |
| 用途：Trymax半导体设备***的-***灰化和蚀刻：NEO200A系列平台 | 订货号：111111 | 货号：111111 |
| 别名：干法清洗 | 是否跨境货源：否 |
NEO200A系列平台是Trymax半导体设备***的NEO系列***灰化和蚀刻产品的***成员。
它是一个全自动的单室系统，可配置任何现有的Trymax NEO工艺模块，并与直径达200mm的基板兼容。占地面积小的NEO200A配置有双盒式磁带。
?特征
- 200 mm晶圆尺寸/基板尺寸
- 双盒式平台
-3轴双臂机器人处理
-4个不同的处理模块：
?下游微波（2.45 GHz）
?射频偏压（13.56MHz）
?双源（微波，射频偏压）
?DCP（RF偏置，直接耦合等离子）
- 优异的均匀性和可重复性
- 机械吞吐量> 100wph
- 紧凑的足迹
- 非常低的拥有成本
- 完全数字控制，Devicenet以太网
- 基于窗口的工业计算机
?应用程序
- 阻挡条带
-Descum处理
- 去除聚合物
- 邮寄高剂量植入带
- 氮化硅蚀刻应用
-MEMS应用程序
- 封装加工（PR，PI，BCB，PBO）
Trymax Semiconductor Equipment的NEO200系列***等离子灰化/蚀刻系统是***的光刻胶和蚀刻设备，以惊人的价格提供***的性能。专为200 mm基板应用而设计。
它配备了一个灵活的装载站，可配置用于处理200 mm的所有不同尺寸的基板。
NEO200系列集成了研究和设备制造商紧凑设计的所有要求，可实现***的拥有成本。
?特征
- 200 mm晶圆尺寸/基板尺寸
- 用于半自动晶圆传输的单个装载平台。
-4个不同的处理模块：
?下游微波（2.45 GHz）
?射频偏压（13.56MHz）
?双源（微波，射频偏压）
?DCP（RF偏置，直接耦合等离子）
- 优异的均匀性和可重复性
- 紧凑的足迹
- 非常低的拥有成本
- 完全数字控制，Devicenet以太网
- 基于窗口的工业计算机
?应用程序
- 阻挡条带
-Descum处理
- 去除聚合物
- 邮寄高剂量植入带
- 氮化硅蚀刻应用
-MEMS应用程序
- 封装加工（PR，PI，BCB，PBO）
